Q300T D Plus 大腔室、多功能、高真空双头离子溅射镀膜仪

Q300T D Plus 适用于两种材料的多层顺序溅射，具有两个独立的溅射头，可以顺序溅射两种金属而其间无需破真空。用户自定义抽真空程序、溅射时间、溅射循环次数、溅射电流等工作参数，全自动运行。通过两靶间循环镀膜程序，可实现两种靶材无限层不同厚度的顺序镀膜。当不使用时，靶材会被挡板遮挡以防止污染。基材样品可用不氧化金属（贵金属）如金（ Au ）铂（ Pt ）镀膜，也可用铱（ Ir ）镀制具有精细成膜颗粒结构的膜层。由于具有高真空系统及挡板装置， Q300T D Plus 也能用易氧化材料如铬（ Cr ）及铝（ Al ）等镀制精细膜层。 Q300T D Plus 标配铬（ Cr ）靶和金（ Au ）靶。

有关采用三靶镀制大面积相同材料的膜层，请参阅 Q300T T Plus 。其它大腔室镀膜仪，请参阅 K975X/K975S 以及 Q300T ES Plus 。

仪器特点：

•   电容式触摸屏，灵敏度高，更易触控使用

•   用户界面软件全面更新，使用现代智能手机技术界面

•   全面的文字帮助页面

•   USB 接口可轻松进行软件更新，也可将配方文件备份 / 复制到 USB 存贮器

•   log 文件格式为 .csv ，内含日期、时间和工作参数，可导出至 Excel 或类似软件中分析

•   允许多用户输入和储存镀膜方案，并可根据近期的使用情况来排列每个用户的配方

•   双核 ARM 处理器，可实现快速响应的显示；带触摸屏按钮的全图形界面，包括近期使用的 1000 个镀膜日志和维护到期时的提醒等功能

•   可拆卸式玻璃腔室，容易清洁底座和顶板，设有防爆罩。如有必要，用户可以快速更换腔室，以避免敏感样品的交叉污染。高腔室选项可避免样品过热，提高溅射的均匀性和承载较高尺寸的样品

•   双头溅射 - 适用于顺序溅射镀膜；磁控冷溅射，脉冲清洁用于溅射 Al （铝）

•   可选的双膜厚监控附件（ FTM ）

•   大而多色的 LED 指示灯，实现可视化状态指示；程序完成后具有音频声音提示

推荐应用：

•   理想的多层溅射镀膜应用

•   粘附研究

•   无需破真空即可实现两种金属的顺序镀膜。例如，先镀一层薄的“晶种”铬（ Cr ）层，然后镀金（ Au ）

•   亦可选择其中一个靶头，实现单金属应用

•   可溅射各种易氧化和非易氧化金属，用于薄膜和电子显微镜应用

Q300T D Plus 是英国 Quorum 出品的国际认可的 Q 系列镀膜仪的一部分，全球数千家客户使用此类镀膜仪。 Q 系列旨在为 SEM 、 TEM 和薄膜应用提供高质量的镀膜解决方案， Q 系列功能多样、价格合理且易于使用。这些产品专供科研用途。

Q Plus 系列镀膜仪也有较小腔室的版本，请参阅： Q150R Plus 、 Q150T Plus 以及 Q150V Plus ； SC7620 和 Q150GB 也是可选的型号。