远程等离子清洁仪

 

用于 SEM,FIB,TEM,XPS,ALD,CD-SEM,EBR,EBI,EUVL 和其它高真空系统的远程等离子清洁仪。 远程等离子源需安装在要被清洁的真空腔室上，控制器向远程离子源提供射频能量。射频电磁场能激发等离子体，分解输入气体而产生氧或氢的活性基，活性基会扩散到下游的真空腔室，并与其中的污染物发生化学反应，反应产物能轻易地被抽走。远程等离子清洁仪可同时清洁真空系统和样品！

 

远程等离子清洁仪 系列具有三种型号：

1 ） EM-KLEEN   一款 智能 设计、功能 强大的下游 式 等离子 清洁仪 。

2 ） SEMI-KLEEN quartz 是为满足半导体行业的苛刻清洁要求而设计

的 解决方案 。

3 ） SEMI-KLEEN   sapphire 用于半导体行业的去污清洁，且支持耐

腐蚀性气体等离子 应用。

 

仪器特点：

•   快速清洁被污染的 SEM 样品。 2-60 秒氢等离子体清洁 ALD 样品。

不需减速或关闭涡轮分子泵

•   低等离子偏压设计减少离子溅射和颗粒生成。结合自有专用多级

气体过滤技术， SEMI-KLEEN 能够满足用户苛刻的颗粒污染清除要求

•   可选蓝宝石管腔体和耐腐蚀性气体的流量控制器，以便支持 CF4, NF3, NH3, HF, H2S 等应用

•   特有的等离子强度传感器可实时监测等离子状态，用户对等离子状态一目了然

•   基于压力传感回馈控制的自动电子流量控制器，无需手动调节针阀

•   直观的触摸屏操作，可定义 60 条清洗程序方案

•   拥有智能安全操作模式和专家控制模式； SmartSchedule ^TM 定时装置，通过检测样品装载次数或时间间隔来定时清洁系统

•   低电磁干扰设计，安静的待机模式

 

推荐应用：

•  FE-SEM 、 FIB 和 TEM 的原位样品清洁

•   适用于半导体设备，如 CD-SEM, EBR, EBI, EUVL 等

•   高真空室清洁，去除碳氢化合物和氟碳污染物

•   减少特高真空 (EHV) 和特高真空 (UHV) 泵的停机时间

•   适用于 XPS 、 SIMS 、 AES 和原子探针的腔室和样品清洁

•   适用于 ALD 和其它半导体加工设备的腔室和样品清洁

PIE Scientific 研发的 SmartClean ™ 技术结合了核研究

和半导体行业先进的等离子体放电技术。 EM-KLEEN

和 SEMI-KLEEN 等离子清洁仪比前几代等离子体清洁仪

先进得多。dafa888bet官方下载的等离子清洁仪可以在任何技术指标上

更胜一筹；此外，许多独特的功能只是在dafa888bet官方下载的仪器

产品上才拥有。

 

dafa888bet官方下载还提供其它系列 样品清洁、样品杆清洁及存储等应

用 的仪器 ， 如您需要， 请参考 Tergeo 系列、

Multipurpose Chamber 和 TEM holder storage 。